0371-55365392 0371-65321580 0371-65325580 0371-55365392
-
PLD脈衝激光濺射沉積設備 該PLD脈衝激光濺射沉積係列設備主要用於生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用於生長高熔點、...
-
離子源電子束蒸發鍍膜儀 該電子束蒸發方式鍍膜儀，主要用於製備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其...
-
高通量超聲波熱解噴塗 高通量超聲波熱解噴塗是通過在加熱的表麵上噴塗溶液來沉積薄膜的過程，在該表麵上，成分發生反應以形成化合物.用於電池電極和鈣...
-
真空熱解噴塗 噴霧熱解製膜法，是將溶液霧化後噴塗到加熱的基座上，然後再基底上得到想要的物質結構
-
超聲波熱解噴塗機 此種材料製備方法特別適用於沉積氧化物，而且在製備透明電極的應用中已有相當長的曆史。現在這種方法在製備鈣鈦礦型太陽能電池中...
-
台式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜... CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射係統，主要用於多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
-
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用...
-
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，...