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雙溫區滑道旋轉管式爐CVD... 雙溫區滑道旋轉管式爐CVD係統十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾,雙溫區滑道旋轉管式爐C...
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等離子增強物理化學氣相沉積... 等離子增強物理化學氣相沉積HPCVD包括一台雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計係統,等離...
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晶圓級大尺寸二硫化鉬製備裝... 晶圓級大尺寸二硫化鉬製備裝置包括三溫區管式爐,特殊設計的爐管及配套氣路一組,晶圓級大尺寸二硫化鉬製備裝置通過特殊設計的管...
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卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備,該卷對卷式PECVD適合用於石墨烯在卷材上的連續生長
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單溫區旋轉PECVD石墨... 單溫區旋轉PECVD石墨烯製備廣泛用於石墨烯製備,顆粒包覆等科學實驗上,該單溫區旋轉PECVD石墨烯製備適合顆粒型樣品...
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1200℃單溫區3路質量供... 1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD係統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區3路質...