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台式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜... CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射係統，主要用於多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
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雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用...
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單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，...
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帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品...
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三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 三靶磁控鍍膜儀可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬...
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台式射頻電源單靶磁控濺射鍍... 本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品製備...
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桌麵型下置靶磁控濺射鍍膜儀 單靶磁控鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品製備
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桌麵型射頻磁控濺射鍍膜儀 單靶磁控鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品製備。本型號...