产品名称：桌面型双靶直流磁控溅射镀膜仪

TN-MSP210S-2DC本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用高真空不锈钢腔体，前开门式设计，门上配有石英观察窗，便于实验的观察记录。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。顶盖上装有一套挡板，可通过转动挡板切换两支靶，实现多层镀膜。

名称	桌面双靶直流磁控溅射镀膜仪
型号	TN-MSP210S-2DC
特点	自主研发、高性价比 结构紧凑可放置于桌面 1英寸或2英寸，标准尺寸磁控靶 双直流电源，共同溅射或者多次溅射
参数	1、旋转加热样品台：尺寸φ100mm；加热温度：max temp:500℃；控温精度：±1℃；转速：1-20rpm可调 2、磁控溅射头：数量2” ×2（1”,2”可选） 水冷 3、真空腔体：尺寸：φ210mm ×260mm、材料 ：不锈钢；前开门式；φ40mm的观察窗 4、真空系统：分子泵组 前级泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 次级泵 涡轮分子泵（国产） 抽速 600L/s 抽气口 KF40 出气口 KF16 5、溅射电源：直流电源 ×2；输出功率 ≤300W ; 输出电压 ≤600V ;响应时间 ＜5ms 6、水冷系统 水箱容积 9L 流量 10L/min 7、膜厚仪 测量精度 0.1埃米 冷却方式 水冷
规格	尺寸：500mm × 350mm × 400mm；重量50kg ；电压：AC220V,50Hz；功率：4KW

注意：本设备需要配合高真空分子泵组一起使用，用户可以选择进口品牌小型分子泵以进一步节省安装面积。

 同时该型号可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据，为实验工艺提供可靠参数

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