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產品詳情
簡單介紹:
桌麵型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備。桌麵型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀用於金屬薄膜的製備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品製備
詳情介紹:
TN-MSP210S-2DC本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用於金屬薄膜的製備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品製備。
本套配置采用高真空不鏽鋼腔體,前開門式設計,門上配有石英觀察窗,便於實驗的觀察記錄。同時設備配有旋轉加熱樣品台,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。頂蓋上裝有一套擋板,可通過轉動擋板切換兩支靶,實現多層鍍膜。
名稱 |
桌麵雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 |
型號 |
TN-MSP210S-2DC |
特點 |
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參數 |
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規格 |
尺寸:500mm × 350mm × 400mm;重量50kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:4KW |
注意:本設備需要配合高真空分子泵組一起使用,用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節省安裝麵積。
同時該型號可選配膜厚儀組件,可實時監測膜厚數據,為實驗工藝提供可靠參數
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