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本設備為桌麵型行星式單靶磁控鍍膜儀,腔體下半部為不鏽鋼機構,上部為高純石英,兼顧了真空性能和容納複雜樣品台的功能型。設備外形為桌麵級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用於金屬及其他導電材料的濺射。設備真空係統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便於使用,非常適合用於各類鍍膜試驗
CY-MSP180G-PST(Planetary sample table)行星式單靶磁控鍍膜儀
樣品台
尺寸
φ50mm
x4
轉速
公轉轉速0-10rpm可調, 公轉自轉轉速比1:5
磁控濺射靶
數量
2” x1
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm
X 100mm
觀察窗口
全向可視
腔體材料
高純石英
開啟方式
頂蓋拆卸式
下法蘭
含有行星式傳動機構,焊接真空接口及進氣閥
真空係統
機械泵
雙級旋片泵
抽氣接口
KF16
分子泵
渦輪分子泵
抽氣接口
KF40
真空測量
電阻規+電離規
排氣接口
KF40
極限真空
1.0E-3Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S
電源配置
數量
直流電源 x1
*大輸出功率
直流電源300W
其他
供電電壓
AC220V,50Hz
整機尺寸
500mm X 320mm
X6200mm
整機功率
2kW
行星式單靶磁控鍍膜儀技術參數: