產品詳情

  • 產品名稱：桌麵型不鏽鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號：CY-MSP190S-1T-A
  • 產品廠商：和记官网
  • 產品文檔：
你添加了1件商品 查看購物車
簡單介紹：
本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品製備
詳情介紹：

本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用於金屬薄膜的製備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷製備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品製備。

本套配置采用高真空不鏽鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便於實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品台，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界麵直觀，利於上手。

單靶磁控鍍膜儀技術參數：

產品名稱

桌麵型不鏽鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

產品型號

CY-MSP190S-1T-A

安裝條件

1、使用環境溫度 25℃±15℃，濕度 55%Rh±10%Rh；

2、設備供電：AC220V，50Hz，必須有良好接地；

3、額定功率：1000w；

4、設備用氣：設備腔室內需充注氬氣清洗，需客戶自備氬氣，純度 ≥99.99%；

5、擺放工作台尺寸要求 600mm×600mm×700mm，承重 50kg 以上；

6、擺放位置要求通風散熱良好。

技術參數

1、 濺射電源：直流電源300W；*大輸出電壓600V，極限輸出電流500mA

2、 磁控靶：2英寸平衡靶，配磁耦合擋板；

3、 磁控靶適用靶材： φ50mm x 3mm厚

4、 腔體尺寸：外徑φ194mm ，內徑186mm x 高230mm；

5、 腔體材質： 304不鏽鋼

6、 旋轉加熱樣品台：轉速1~20rpm  連續可調；加熱溫度*高500℃，升溫速度推薦10℃/min，*高20℃/min。

7、 冷卻方式：磁控靶及分子泵需要循環水冷機；

8、 水冷機：水箱容積9L，流速10L/min

9、 供氣係統：質量流量計， 氣體類型Ar氣，流量1~30sccm（可定製）；

10、 流量計精度：±1.5%量程

11、 真空腔體抽氣接口為 KF40；

12、 進氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭；

13、 顯示屏為7英寸彩色觸摸屏；

14、 可調節濺射電流，可設置濺射安全電流值、安全真空值；

15、 安全保護：過流、真空過低自動切斷濺射電流；

16、 極限真空：5E-4Pa(搭配分子泵)；

17、 真空測量為電阻規真空計，其量程為：1～105Pa

注意事項

1、磁控濺射工作真空較高，一般在2Pa之內，需要配分子泵使用。

2、為了達到較高的無氧環境，至少要用高純惰性氣體對真空腔體清洗 3 次。

3、磁控濺射對進氣量比較敏感，需要使用質量流量計控製進氣量

可選配件

膜厚監測儀

1、膜厚分辨率：0.0136Å（鋁）

2、膜厚準確度：±0.5%，取決於過程條件，特別是傳感器的位置， 材料應力，溫度和密度

3、測量速度：100ms-1s/次，可設置測量範圍：500000Å（鋁）

4、標準傳感器晶體：6MHz

5、適用晶片頻率：6MHz 適用晶片尺寸：Φ14mm 安裝法蘭：CF35

其他配件

1、CY-CZK103係列高性能分子泵組（含複合真空計，測量範圍10-5Pa~105Pa）；

CY-GZK60係列小型分子泵組（含複合真空計，測量範圍10-5Pa~102Pa）

VRD-4雙極旋片真空泵；

2、KF40真空波紋管；長度可選0.5m、1m、1.5m；KF40卡箍支架

3、膜厚儀晶振片；